据衢州经信官微音讯，浙江奥首资料科技有限公司开发的新产品“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”已完成量产。

  近来，奥首开发的“14nm 节点以上芯片光刻胶剥离液”通过了专家检验评定，专家们共同以为产品的技能水平已达到世界领先水平。该司企业担任的人介绍，2023 年有望完成出售的收益 2000 多万元。

  新产品具有去胶能力强、清洗良率高、金属离子含量低、不含苯酚或氯化溶剂、金属蚀刻速率低一级特色，首要运用在于半导体芯片光刻图形化工艺后残留光刻胶的清洗范畴，尤其是大规模集成电路 14nm 技能节点以上芯片光刻后的清洗。

  资料显现，奥首成立于 2014 年，是一家专门干集成电路和先进显现功用化学品研制出产的国家高新技能企业，建有 3000 多平百级/千级洁净实验室、洁净中试车间及数十条自动化洁净出产线。

  现在，奥首已开发了集成电路的功用电子化学品产品 50 多种，部分产品可与美国杜邦、日本 TOK、德国巴斯夫同等类产品相媲美，首要客户包括欧司朗、中芯、长电、华润等国内半导体企业。

  奥首表明，未来将环绕集成电路、先进显现、航空航天等战略新鼓起的工业的“卡脖子”资料，积极开展技能攻关，筑牢我国集成电路工业供应链安全枢纽，带动本地构成功用电子化学品工业集聚，助力衢州市建造“万亩千亿”电子资料基地。

  第三章：正型光刻胶用光敏剂资料商场分析一、 全球显现面板光刻胶用光敏剂商场现状及趋势